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電子廠廢氣處理方法——低溫等離子技(jì)術

返回列表 瀏覽:- 發(fā)布日期:2020-08-27 10:21:48【

電(diàn)子廠涉及到的(de)行業很多,不同行業在工藝上有一定差異,產生的廢氣(qì)種類也有一定的差異,今(jīn)天就從半導體行業入手為大家介紹(shào)電子廠廢氣處理。電子廠半導體廢氣(qì)的處(chù)理主要(yào)針對半導體行業(yè)有機廢氣(qì)和毒性氣體的(de)治(zhì)理,我(wǒ)們嚐試(shì)使(shǐ)用低溫等離子廢氣處理技術。半導體行(háng)業產生的(de)有(yǒu)機廢氣(qì),主要可以分為,半導體製造工藝產生的有機廢氣(qì),和半(bàn)導體封裝(zhuāng)工藝產生的有機(jī)廢氣。

電子廠(chǎng)廢氣

1、廠家處理有(yǒu)機廢氣和毒氣的處理方法

現在,半導體製造過程中排放的含有有機成分的廢氣(voc)通常(cháng)采用直接焚燒、活性炭吸附、生物氧化等方法進行處理。

催化燃燒裝置

2、針對電子廠廢氣處理半導體行業有機廢氣和毒性氣體(tǐ)的治理,低溫等離(lí)子廢氣處(chù)理技術的淨化原理是:

將普(pǔ)通的220V/380V交流電通過變壓器,變頻器轉換為高頻高壓的電壓,產生足以擊穿氣體的電壓(yā),釋放(fàng)出(chū)高能電子,高能電子破壞有機廢氣中的氣體分子之間的化學鍵,斷開(kāi)這些(xiē)化學鍵從而(ér)產生了各種碳原子、氧原子、氫原子、氫氧自由基、臭氧等混合體(tǐ),等離子體(tǐ)中的氧原子和碳原子結合形成二氧化碳,氧原子和氫原子(zǐ)結合形(xíng)成水分子,最終產生排放到(dào)大(dà)氣中的氣體為無汙染的二氧化碳(CO2)和水(H2O)。

洗滌塔+低溫(wēn)等離子處理方案

3、電子廠廢氣處(chù)理低溫等離子廢氣處理技(jì)術具有以下(xià)優點:


  • 放電(diàn)產生的低溫等離子(zǐ)體中,電子能量高,幾乎可以和所有的(de)惡臭氣體分(fèn)子作用。
  • 反應快,不受氣速限(xiàn)製。
  • 采(cǎi)用防腐蝕材料。
  • 隻需用電,操作極為簡單(dān)。
  • 設備啟動、停止十分迅速,隨用隨開,常溫常壓下即能使用。
  • 氣(qì)阻小,適用於大風量(liàng)的廢(fèi)氣處理。

4、電子廠廢氣處理低溫等離子廢氣處理技術應用領域:集成電路生產企業(yè)、分立器件生產企業、光(guāng)電組件生產企(qǐ)業。


5、半導(dǎo)體企業廢氣排放特征分析

半導(dǎo)體行業廢氣排放具(jù)有排(pái)氣量(liàng)大、排放濃度小的特點。

6、半導體(tǐ)行業有機(jī)廢氣和毒氣的來源(yuán)


  • 半(bàn)導體製造工藝產(chǎn)生的揮發(fā)性有機廢氣,主要(yào)來源於光刻、顯影、刻蝕及擴散等(děng)工序
  • 與半導(dǎo)體製(zhì)造工藝相比,半導體封裝工藝產生的有(yǒu)機廢氣較(jiào)為簡(jiǎn)單,主要為晶粒粘貼、封膠後烘烤過程產生(shēng)的烘烤廢氣。
  • 含毒氣性(xìng)廢氣,其來源(yuán)為化學氣相(xiàng)沉積、幹蝕刻機、擴(kuò)散、離子布值機(jī)及磊晶等製程時所產生(shēng)。主要成分是磷化氫等。

電子廠廢氣處理半導體低溫等離子技術,在實際設計中,需要加洗滌塔作為(wéi)預處理裝置,來攔截粉塵和易溶性的酸堿廢氣。今天就為大家介(jiè)紹到這裏了(le),如果您想要了(le)解詳細的設計(jì)方案,可以打電話向我們谘詢:17306171723


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